一、雜散光的重要性
雜散光是紫外分光光度計非常重要的關鍵技術指標。它是分光光度計分析誤差的主要來源, 它直接限制被分析測試樣品濃度的上限。當一臺分光光度計的雜散光一定時, 被分析的試樣濃度越大, 其分析誤差就越大。astm 認為: “雜散光可能是光譜測量中主要誤差的來源。尤其對高濃度的分析測試時, 雜散光更加重要”。有文獻報道, 在紫外可見光區(qū)的吸收光譜分析中, 若儀器有1%的雜散光, 則對2. 0a 的樣品測試時, 會引起2%的分析誤差時, 說明儀器中有這種雜散光存在。但必須注意, 當儀器存在零點誤差時, 有可能造成混淆。如果在不透明的樣品上涂上白色, 則可增加樣品本身反射和散射的效果, 可以提高測量靈敏度。第二種形式是指測試波長以外的、偏離正常光路而到達光電轉換器的光線。它通常是由光學系統(tǒng)的某些缺陷所引起的。如光學元件的表面被擦傷、儀器的光學系統(tǒng)設計不好、機械零部件加工不良, 使光路位置錯移等。
雜散光對分析測試結果的誤差影響是隨著吸光度值增大而增大的。因此,吸光度值越大, 對誤差的影響也越大。
二、雜散光的來源
產(chǎn)生雜散光的原因很多, 其最主要的原因大致有以下9 個方面:
?、?灰塵沾污光學元件( 如光柵、棱鏡、透鏡、反射鏡、濾光片等)。
② 光學元件被損傷, 或光學元件產(chǎn)生的其他缺陷( 如光柵、透鏡、反射鏡、棱鏡材料中的氣泡等)。
?、?準直系統(tǒng)內(nèi)部或有關隔板邊緣的反射。
?、?光學系統(tǒng)屏蔽不好。
?、?熱輻射或熒光引起的二次電子發(fā)射。
?、?狹縫的缺陷。
?、?光束孔徑不匹配。
?、?光學系統(tǒng)的像差。
?、?單色器內(nèi)壁黑化處理不當。
以上9 個方面中, 光柵是雜散光的主要來源。它產(chǎn)生的雜散光占總雜散光的80%以上。
三、雜散光的測試方法
目前, 測試雜散光常用的方法是所謂“ 截止濾光法” ( t he cut off filtermethod) 或稱作“ 濾光片法” ( the filte r method) 。主要是采用濾光片或濾光液來測試紫外分光光度計的雜散光。有時也采用he-ne 激光器的632. 8nm 來測試雜散光。具體做法是在離632. 8nm±5nm 處進行測試, 測出的數(shù)值與632. 8nm 相比就是雜散光。“截止濾光法” 的具體測試方法: 儀器冷態(tài)開機, 預熱0. 5h , 如用“濾光片法” 測試, 則參比為空氣; 如用濾光液來測試, 則參比為溶劑(若用nai、nano2 水溶液, 則參比為蒸餾水)。設置儀器的縱坐標為% t , 橫坐標為波長 nm) , 用濾光液時, 試樣比色皿中裝濾光液, 參比比色皿中裝溶解液, 將波長調到相應的波長上( nai 為220nm、nano2 為340nm) 進行測試。
